Электронно-лучевое испарение материалов

Испарение в вакууме материалов при нагреве их ЭЛ широко используется для получения тонких пленок. В отличии от других способов испарения, где энергия подводится к испаряемой поверхности через стенку тигля, при ЭЛ обработке испарение осуществляется за счет ЭЛ, который направлен на испаряемый материал. Это позволяет испарять материал из водоохлаждаемого тигля. Это особенно важно, когда испаряются химически активные материалы и тугоплавкие металлы. Испарение материала из водоохлаждаемого тигля дает возможность получать покрытия высокой чистоты, поскольку при этом почти полностью исключается реакция испаряемого материала с металлом тигля.

При ЭЛИ удается регулировать скорость испарения и распределение плотности потоков пара.

Из бункера испаряемый материал порциями поступает в охлаждаемый тигель. Траиктория ЭЛ получается с помощью электронной пушки. В результате воздействия ЭЛ на поверхность материала последний испаряется и поднимается вверх, осаждается на поверхности изделия. При этом образуется плотная пленка. Существует также испарение из многих тиглей. Можно в один тигель помещать несколько материалов и их испарять.

ЭЛИ применяется в микроэлектронике при нанесении различных металлических покрытий на стальную ленту при изготовлении фольги. Можно наносить и неметаллы- диоксид кремния, оксид алюминия, различные виды стекла. Такие покрытия используются в оптической промышленности и в электронике.