Технология ЭХ нанесения покрытий

Электрохимические покрытия могут наноситься как на катоде, так и на аноде. Покрытия на аноде часто называют пленками. Физическая сущность этих процессов различна. Мы рассмотрим покрытия на катоде.

Осаждение покрытий на катоде (процессы гальваностегии и гальванопластики). Для процессов гальванопластики и гальваностегии основным катодным процессом является электроосаждение — электрокристаллизация металла анода на катоде по схеме:

Meⁿ⁺ + ne^- ® Me⁰¯.

Катод в этом процессе является подложкой, на которой создается покрытие. В основе осаждения лежит процесс кристаллизации, аналогичный процессу кристаллизации при застывании металла. Образуется маленький кристалл - зародыш. Дальше кристалл растет. Рядом растет другой кристалл.Кристаллы вырастая сталкиваются между собой. Возникают внутренние напряжения. Между кристаллами могут возникать поры. Поры не предохраняют от атмосферы, коррозии.

В связи с этим покрытия могут быть сплошными и пористыми. Сплошные покрытия образуются из зерен малого размера. Все ли металлы могут формировать покрытия?

У катода могут находиться ионы различных металлов, а восстанавливаться на катоде будут в первую очередь те металлы, электродный потенциал которых более положителен. Т.е. металлы стоящие правее водорода в ряду электродного потенциала. Следовательно, металлы стоящие в ряду электродного потенциала левее водорода восстанавливаться на катоде не будут. Однако, в процессе прохождения тока, электроды поляризуются. Катод становится более отрицателен, а анод более положителен. И это позволяет наносит покрытия целого ряда металлов стоящих левее водорода.