Процессы на катоде

1) CuSO₄ «Cu²⁺ + SO₄^2-

Положительные ионы меди двигаются к катоду. Там Cu²⁺ + 2e = Cu⁰ – осаждается на катоде. Таким образом, формируются металлические покрытия (хромирование, никелирование). А на аноде покрытия всегда солевые.

На основе этих технологий – гальванопластика (точный оттиск), гальваностегия, рафинирование.

2) NaCl ↔ Na⁺ + Cl^- Ионы натрия имеют самый отрицательный электродный потенциал и поэтому до катода они не доходят. А на катоде идёт восстановление воды

2H₂O + 2e = H₂ + 4(OH)^-

Na⁺ + (OH)^- = NaOH

Здесь идет процесс защелачивания раствора, а не восстановление NaCl. Таким образом, в дальнейшем процесс идет по-другому, т.к. нарушается равновесие концентрации раствора.

3) Как помним, в растворе есть молекулы воды, которые диссоциируют:

H₂O ® H⁺ + OH^-

Ионы водорода идут к катоду. А здесь H⁺ + e = H⁰ он очень активен. Он может объединяться в молекулу и образовывать газ H₂.

в молекулу и образовать газ Н₂

4)В ряде случаев может образовываться покрытие и выделяться водород одновременно. Это приводит к наводораживанию покрытия. Покрытие получается некачественным. Образуются воздушные пузыри, которые в дальнейшем могут отслаиваться. Таким образом, если покрытие в процессе эксплуатации отслаивается, то значит была нарушена технология его нанесения.

Таким образом, есть процессы, происходящие на аноде, на катоде, в электролите. Все эти процессы взаимосвязаны, т. к. это одна система.