Высокочастотные плазмотроны

Как было отмечено выше, высокочастотные разряды (а, соответственно, и плазмотроны) могут быть электродными (коронный, факельный) и безэлектродными (ВЧИ – высокочастотные индукционные, ВЧЕ – высокочастотные емкостные, СВЧ – сверхвысокочастотные). Основные преимущества безэлектродных плазмотронов перед электродными (в том числе электродуговыми) состоят в следующем:

- высокий ресурс работы (тысячи часов);

- отсутствие загрязнения получаемых в плазмохимическом реакторе материалов продуктами эрозии электродов;

- возможность работы на чистом кислороде и других агрессивных плазмообразующих газах.

К недостаткам высокочастотных плазмотронов следует отнести невысокий общий КПД установок и сложность создания установок большой мощности. Так мощность ВЧ-плазмотронов ~0,5 МВт (и до 1 МВт), у СВЧ ~0,1 МВт, а КПД не превышает 0,6.

Термин «СВЧ-плазма» объединяет плазменные образования, полученные в различных СВЧ-устройствах (плазмотронах). В настоящее время разработаны многочисленные СВЧ-устройства для получения плазмы, и свойства последней неизбежно зависят от способа её получения. Эти устройства определяют структуру электромагнитного поля, энергетическую эффективность устройства, широкополосность, зависимость свойств плазмы от частоты, уровни минимальной и максимальной мощности. Поэтому при необходимости анализа такой плазмы более целесообразно рассматривать СВЧ-разряд-систему, представляющую плазму в конкретном газоразрядном устройстве.

СВЧ-разрядами (микроволновыми разрядами) обычно называют разряды, создаваемые с помощью электромагнитных волн с частотой, превышающей 300 МГц. Разрешенными для промышленных, медицинских и научных применений являются частоты 460, 915, 2450, 5800, 22125 МГц. Наиболее часто используется частота 2450 МГц.

СВЧ-разряды заняли прочное место в ряду других генераторов плазмы. Свойства таких разрядов и полученной в них плазмы рассматриваются во всех аспектах, связанных с физикой плазмы, плазмохимией и плазменными технологиями.

Способы получения и технические приёмы, которые используются для получения СВЧ-плазмы соответственны СВЧ-диапазону и отличны от применяемых при более низких частотах. Плазма может быть создана при давлениях от 1,33.10^-2 Па до атмосферного в импульсном и непрерывном режимах, используемые средние мощности лежат в пределах от единиц ватт до сотен киловатт.

Основным элементом СВЧ-разряда является устройство, позволяющее вводить электромагнитную энергию в разрядный объём. Существует порядка 10 групп, на которые могут быть условно разделены все конструкции СВЧ-диапазона.

Основными достоинствами СВЧ-разрядов являются:

· Простота получения плазмы с высоким удельным энерговкладом (> 1 Вт/см³).

· Простота получения плазмы с малыми энерговкладами (<< 1Вт/см³).

· Широкая область рабочих давлений (от 1,33.10^-2 Па до давлений, превышающих атмосферное).

· Возможность создания как квазиравновесной, так и существенно неравновесной плазмы.

· Простота управления внутренней структурой разряда путём изменения электродинамических характеристик устройства ввода СВЧ-энергии в плазму.

· Возможность создания плазмы в безэлектродных и электродных системах (в последнем случае отсутствует загрязнение объёма и образцов продуктами эрозии электродов).

· Возможность создания плазмы в малых и больших объёмах, включая свободное пространство (атмосфера Земли).

· Возможность обработки больших поверхностей сканированием области плазменного образования, имеющего малые размеры.

· Возможность совместного воздействия плазмы и электромагнитного поля на объекты в плазме для увеличения эффективности процесса.

· Разработанные семейства разнообразных эффективных СВЧ-генераторов плазмы позволяют выбрать конструкцию для любых применений.