C) Основные химические и физические превращения

D) Энергетические явления

E) Фазовые явления

8. Идентификация ХТС – это

A ) научно-исследовательская операция разработки оптимальной математической модели реальной ХТС по экспериментальным данным о ее входных и выходных переменных

B) операция определения для данной ХТС при заданных технологической топологии, конструкционных и техно­логических параметрах каждого элемента системы

C) операция определения для данной ХТС при заданных технологической топологии, типах и конструкциях каждого элемента, обеспечивающих оптимальное зна­чение КЭ функционирования ХТС

D) операция создания ХТС для производства заданной химической продукции с учетом определенных требований к функционированию ХТС

E) операция, представляющая собой специальные графические отображения, по которым можно определить количественные характеристики функционирования системы

9. Для определения селективности процесса используется формула:

А) Ф_i^A = (n_i – n_i,O)/(v’_i/[v’_A] _* n_{A,O *} X_A)

B) Ф_i^A = (n_i,O – n_i)/(v’_{i *} n_{A,O *} X_A)

C) Ф_i^A = (n_i – n_i,O)/(v’_i/[v’_A] _* n_{A *} X_A,O)

D) Ф_i^A = (n_i – n_i,O)/(v’_i/[v’_A] _* n_{A,O *} X_A,O)

E) Ф_i^A = (n_i – n_i,O)/(v’_i/[v’_A,O] _* n_{A,O *} X_A)

10. В каком реакторе должен быть организован процесс смещения, чтобы в любой точке аппарата были абсолютно одина­ковые условия по концентрации реагентов, продуктов реакции, степени превращения, температуре и т.д.?

A) в реакторе идеального смешения B) в реакторе периодического действия

C) в реакторе непрерывного действия D) в реакторе идеального вытеснения

E) в реакторе непрерывного вытеснения

11. Как увеличить поверхность соприкосновения фаз в системе Г-Ж.

A) Распределением жидкости в виде тонкой пленки на поверхности насадки;

B) За счет диспергирования жидкости;

C) За счет диспергирования газа в объеме жидкости;

D) Созданием взвешенного слоя подвижной пены;

E) Снижением скорости газа

12. Что называют оптимальным режимом проведения химического процесса?

A) Температурный (тепловой) режим проведения химического процесса, обеспечивающий экономически целесообразную максимальную производительность единицы объема реактора по целевому продукту

B) Температурный (тепловой) режим проведения химического процесса, обеспечивающий экономически целесообразную максимальную производительность единицы поверхности реактора по целевому продукту

C) Температурный (тепловой) режим проведения химического процесса, обеспечивающий экономически целесообразную максимальную производительность единицы интенсивности по побочному продукту

D) Температурный (тепловой) режим проведения химического процесса, обеспечивающий минимальную производительность единицы объема реактора по целевому продукту

E) Нет верного ответа

13. Какая формула описывает скорость поверхностной реакции?

A)

B)

C)

D)

E)

Утвержден на заседании кафедры от 8 октября 2007 г. (протокол № 3)